Leiterplattenherstellung im Negativverfahren mit galvanischer Durchkontaktierung, grüner Lötstoppmaske und mit blauem Bestückungsdruck wie Basisline Level 3, aber zusätzlich auf Durchsatz optimiert
Zuschnitt des Rohmaterials
(Ne-Cut)
CNC-Bohren
(BUNGARD CCD/ATC)
Bürstreinigung
(RBM 300)
galvanische
Durchkontaktierung
(COMPACTA 30 2CU)
Bürstreinigung
(RBM 300)
Auflaminieren
des Ätzresist
(RLM 419p #1)
Vakuumbelichtung
(HELLAS LED)
Sprühentwickeln
(SPLASH D)
Sprühätzen
Strippen des Ätzresist
(beides SPLASH CENTER)
Bürstreinigung
(RBM 300)
chemische Verzinnung
(SPLASH CENTER)
Auflaminieren
des Ätzresist
(RLM 419p #2)
Belichten
der Lötstoppmaske
(HELLAS LED)
Sprühentwickeln
(SPLASH D)
Aushärten
der Lötstoppmaske
(HELLAS LED oder Umluftofen)
CNC-V-Cut
oder Konturenfräsung
(Bungard CCD/ATC)
Leiterplattenherstellung mit mechanischer Durchkontaktierung
Leiterplatten wie unter Level 1 zusätzlich mit grüner Lötstoppmaske und blauem Bestückungsdruck
Leiterplatten wie unter Level 2 jedoch im Negativverfahren mit galvanischer Durchkontaktierung
Leiterplattenherstellung im Negativverfahren mit galvanischer Durchkontaktierung, grüner Lötstoppmaske und mit blauem Bestückungsdruck wie Basisline Level 3, aber zusätzlich auf Durchsatz optimiert
Leiterplattenherstellung im Negativverfahren mit galvanischer Durchkontaktierung, grüner Lötstoppmaske und mit blauem Bestückungsdruck wie Basisline Level 3, aber zusätzlich auf Durchsatz optimiert für
Plattenformat 300 x 400!
Leiterplattenherstellung im Negativverfahren mit galvanischer Durchkontaktierung, grüner Lötstoppmaske und mit blauem Bestückungsdruck
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